DEPOSITION OF H-2-PERMSELECTIVE SIO2-FILMS

被引:233
作者
GAVALAS, GR
MEGIRIS, CE
NAM, SW
机构
关键词
D O I
10.1016/0009-2509(89)85125-5
中图分类号
TQ [化学工业];
学科分类号
0817 ;
摘要
引用
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页码:1829 / 1835
页数:7
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