FOCUSED ION-BEAM INDUCED DEPOSITION

被引：20

作者：

MELNGAILIS, J

BLAUNER, PG

机构：

来源：

ION BEAM PROCESSING OF ADVANCED ELECTRONIC MATERIALS | 1989年 / 147卷

关键词：

D O I：

10.1557/PROC-147-127

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

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页码：127 / 141

页数：15

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