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HOLE PROPERTIES OF A-SI-H AND A-SI,GE-H,F ALLOYS
被引：2
作者：
CHU, V
LIU, JZ
CONDE, JP
WAGNER, S
机构：
来源：
AMORPHOUS SILICON TECHNOLOGY - 1989
|
1989年
/
149卷
关键词：
D O I：
10.1557/PROC-149-509
中图分类号：
O64 [物理化学（理论化学）、化学物理学];
学科分类号：
070304 ;
081704 ;
摘要：
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页码：509 / 514
页数：6
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