DESTRUCTIVE BREAKDOWN IN THIN FILMS OF SIO MGF2 CAF2 CEF3 CEO2 AND TEFLON

被引：41

作者：

BUDENSTEIN, PP

HAYES, PJ

SMITH, JL

SMITH, WB

机构：

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1969年 / 6卷 / 02期

关键词：

D O I：

10.1116/1.1492680

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：289 / +

页数：1

共 35 条

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