THE EFFECTS OF SOME PLATING VARIABLES ON THE STRUCTURE OF THIN NICKEL ELECTRODEPOSITS

被引:8
作者
RAGHUNATHAN, K
WEIL, R
机构
来源
SURFACE TECHNOLOGY | 1980年 / 10卷 / 05期
关键词
D O I
10.1016/0376-4583(80)90090-4
中图分类号
T [工业技术];
学科分类号
08 ;
摘要
引用
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页码:331 / 342
页数:12
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