REEMISSION OF HYDROGEN AND DEUTERIUM FROM GRAPHITE FOR TEMPERATURES BETWEEN 1000-K AND 1600-K

被引：12

作者：

DAVIS, JW

HAASZ, AA

机构：

来源：

JOURNAL OF NUCLEAR MATERIALS | 1991年 / 183卷 / 03期

关键词：

D O I：

10.1016/0022-3115(91)90494-R

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

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页码：229 / 232

页数：4

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共 7 条

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[J]. JOURNAL OF NUCLEAR MATERIALS, 1984, 128 (DEC) : 657 - 663
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Davis, J.W.
Haasz, A.A.
Walsh, D.S.
[J]. Journal of Nuclear Materials, 1990, 176-77 : 992 - 999
[3] DAVIS JW, 1988, UNPUB
[4] DAVIS JW, 1988, UTIAS328 REP
[5] DAVIS JW, 1989, CFFTPG8904 REP
[6] ERENTS SK, 1976, I PHYS C SER, V28, P318
[7] REEMISSION OF DEUTERIUM FROM GRAPHITE AT TEMPERATURES ABOVE 1100-K
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[J]. JOURNAL OF NUCLEAR MATERIALS, 1990, 172 (03) : 293 - 296