INFLUENCE OF OXYGEN ON PHOTOSENSITIVITY AND PICTURE QUALITY OF KTFR LACQUER

被引:9
作者
FROSCHLE, E
BACKHUS, R
机构
关键词
D O I
10.1016/0038-1101(71)90083-9
中图分类号
TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];
学科分类号
0808 ; 0809 ;
摘要
引用
收藏
页码:95 / &
相关论文
共 10 条
  • [1] ALTMAN J, 1968, KODAK PHOTORESIST SE, V2, P12
  • [2] BENEKING H, 1969, VERH DPG, V4, P197
  • [3] DAMON G, 1968, KODAK PHOTORESIST SE, V2, P20
  • [4] EIN UHF-TRANSISTOR MIT BASISQUERFELD FUR DAS FREQUENZGEBIET UM 1000 MHZ
    FROSCHLE, E
    [J]. SOLID-STATE ELECTRONICS, 1966, 9 (03) : 245 - +
  • [5] HTOO MS, 1968, KODAK PHOTORESIST SE, V1, P25
  • [6] LEVINE HA, 1968, KODAK PHOTORESIST SE, V1, P15
  • [7] MARTINSON LE, 1966, 2 P KOD SEM MICR, V4, P4
  • [8] MARTINSON LE, 1968, KODAK PHOTORESIST SE, V1, P31
  • [9] RENZ A, PERSONAL COMMUNICAT
  • [10] SCHUTZE HJ, 1967, INT K PHOTOGRAPHIE, P259