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DIRECT WRITING THROUGH RESIST EXPOSURE USING A FOCUSED ION-BEAM SYSTEM

被引：9
作者：
OCHIAI, Y
KOJIMA, Y
MATSUI, S
机构：
来源：
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY B | 1988年 / 6卷 / 04期
关键词：
D O I：
10.1116/1.584297
中图分类号：
TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];
学科分类号：
0808 ; 0809 ;
摘要：
引用
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页码：1055 / 1061
页数：7
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