DETERMINATION OF RELATIVE NITROGEN DOPING LEVEL OF TANTALUM NITRIDE RESISTOR FILM BY MEANS OF SEEBECK EFFECT

被引:2
作者
TRUDEL, ML
机构
来源
IEEE TRANSACTIONS ON PARTS HYBRIDS AND PACKAGING | 1972年 / PHP8卷 / 03期
关键词
D O I
10.1109/TPHP.1972.1136576
中图分类号
TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];
学科分类号
0808 ; 0809 ;
摘要
引用
收藏
页码:16 / &
相关论文
共 4 条
[1]  
BERRY RW, 1968, THIN FILM TECHNOLOGY, P221
[2]  
HENSLER DH, UNPUBLISHED WORK
[3]   SPECTROPHOTOMETRIC COMPOSITIONAL ANALYSIS OF TANTALUM-ALUMINUM ALLOY FILMS [J].
HUBER, F ;
JAFFE, D .
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1971, 8 (03) :480-&
[4]  
ROTTERSMAN M, UNPUBLISHED WORK