MEASURING THE BACKSCATTERING COEFFICIENT AND SECONDARY-ELECTRON YIELD INSIDE A SCANNING ELECTRON-MICROSCOPE

被引：144

作者：

REIMER, L

TOLLKAMP, C

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1002/sca.4950030105

中图分类号：

TH7 [仪器、仪表];

学科分类号：

0804 ; 080401 ; 081102 ;

摘要：

引用

页码：35 / 39

页数：5

共 13 条

[1]

COLBY JW, 1969, ELECTRON PROBE MICRO, P177

[2]

COLBY JW, 1967, ADV XRAY ANAL, V10, P447

[3]

DENEE PB, 1978, SCANNING ELECTRON MI, V1, P771

[4]

DRESCHER H, 1970, Z ANGEW PHYSIK, V29, P331

[5]

HEINRICH KFJ, 1964, ADV XRAY ANAL, V7, P325

[6]

KUHNLE G, 1969, BEITR ELEKTR MIKR DI, V2, P101

[7]

Moncrieff DA., 1978, SCANNING, V1, P195, DOI DOI 10.1002/SCA.4950010307

[8]

Niedrig H., 1978, SCANNING, V1, P17

[9]

Philibert J., 1963, X RAY OPTICS XRAY MI, P451

[10]

REIMER L, 1968, BEITR ELEKTRONENMIKR, V1, P53