OPTICAL REFLECTIVITY STUDIES OF DAMAGE IN ION-IMPLANTED SILICON

被引：36

作者：

MIYAO, M

MIYAZAKI, T

TOKUYAMA, T

机构：

来源：

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS | 1978年 / 17卷 / 05期

关键词：

D O I：

10.1143/JJAP.17.955

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

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页码：955 / 956

页数：2

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共 3 条

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