POLY(METHYL-ALPHA-CHLORACRYLATE) AS A NEW POSITIVE ELECTRON-BEAM RESIST

被引：15

作者：

HELBERT, JN ^{[1
]}

COOK, CF ^{[1
]}

POINDEXTER, EH ^{[1
]}

机构：

[1] USA,ELECTR TECHNOL & DEVICES LAB,ECOM,FT MONMOUTH,NJ 07703

来源：

JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY | 1977年 / 124卷 / 01期

关键词：

D O I：

10.1149/1.2133233

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

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页码：158 / 159

页数：2

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共 6 条

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