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DIFFUSION ENHANCEMENT DUE TO LOW-ENERGY ION-BOMBARDMENT DURING SPUTTER ETCHING AND DEPOSITION
被引:77
作者
:
ELTOUKHY, AH
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
UNIV ILLINOIS,DEPT MECH ENGN,URBANA,IL 61801
ELTOUKHY, AH
GREENE, JE
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
UNIV ILLINOIS,DEPT MECH ENGN,URBANA,IL 61801
GREENE, JE
机构
:
[1]
UNIV ILLINOIS,DEPT MECH ENGN,URBANA,IL 61801
[2]
UNIV ILLINOIS,DEPT MET,URBANA,IL 61801
[3]
UNIV ILLINOIS,COORDINATED SCI LAB,URBANA,IL 61801
[4]
UNIV ILLINOIS,MAT RES LAB,URBANA,IL 61801
来源
:
JOURNAL OF APPLIED PHYSICS
|
1980年
/ 51卷
/ 08期
关键词
:
D O I
:
10.1063/1.328265
中图分类号
:
O59 [应用物理学];
学科分类号
:
摘要
:
引用
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页码:4444 / 4452
页数:9
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