CHARACTERIZATION OF REACTIVELY RF-SPUTTERED TANTALUM OXIDE-FILMS

被引：5

作者：

TU, YK

LIN, CC

WANG, WS

HUANG, SL

机构：

[1] NATL TAIWAN UNIV,DEPT ELECT ENGN,TAIPEI 10764,TAIWAN

[2] NATL TSING HUA UNIV,DEPT PHYS,HSIN CHU 30043,TAIWAN

来源：

THIN SOLID FILMS | 1988年 / 162卷 / 1-2期

关键词：

D O I：

10.1016/0040-6090(88)90221-0

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

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页码：325 / 331

页数：7

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共 5 条

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