SIMULATION OF X-RAY RESIST LINE EDGE PROFILES

被引：14

作者：

NEUREUTHER, AR ^{[1
]}

机构：

[1] UNIV CALIF BERKELEY,ELECTR RES LAB,BERKELEY,CA 94720

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1978年 / 15卷 / 03期

关键词：

D O I：

10.1116/1.569723

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：1004 / 1008

页数：5

共 9 条

[1]

FEDER R, 1976, 4TH P REG TECHN C PH, P116

GREENEICH, JS .

[3]

HATZAKIS M, 1974, ELECTROCHEMISTRY SOC, P542

[4]

JEWETT RE, 1976, 4TH P REG TECHN C PH, P105

MALDONADO, JR ;

COQUIN, GA ;

MAYDAN, D ;

SOMEKH, S .

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1975, 12 (06) :1329-1331

[6]

OUANO A, 1977, COMMUNICATION MAY

[7] APPLICATION OF SYNCHROTRON RADIATION TO X-RAY LITHOGRAPHY [J].

SPILLER, E ;

EASTMAN, DE ;

FEDER, R ;

GROBMAN, WD ;

GUDAT, W ;

TOPALIAN, J .

[8]

UEBERREITER K, 1968, DIFFUSION POLYMERS, pCH7

[9]

1976, Patent No. 3984582