CHEMICAL VAPOR-DEPOSITION OF CUGAS2 USING CHLORIDE SOURCES

被引：26

作者：

MATSUMOTO, T

NAKANISHI, H

ISHIDA, T

机构：

来源：

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS & EXPRESS LETTERS | 1987年 / 26卷 / 08期

关键词：

D O I：

10.1143/JJAP.26.L1263

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：L1263 / L1265

页数：3