ELECTROCHEMICAL STUDY ON HUMAN DENTAL ENAMEL WITH SPECIAL REFERENCE TO ISOELECTRIC POINT

被引：8

作者：

KAMBARA, M ^{[1
]}

ASAI, T ^{[1
]}

KUMASAKI, M ^{[1
]}

KONISHI, K ^{[1
]}

机构：

[1] OSAKA DENT UNIV,DEPT OPERAT DENT,HIGASHI KU,OSAKA,JAPAN

来源：

关键词：

D O I：

10.1177/00220345780570022701

中图分类号：

R78 [口腔科学];

学科分类号：

1003 ;

摘要：

引用

页码：306 / 312

页数：7

共 17 条

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