EFFECT OF GAS CONCENTRATIONS IN DIFFUSION OF SILICON FROM A PHOSPHINE SOURCE

被引:5
作者
KESPERIS, JS
机构
关键词
D O I
10.1149/1.2407569
中图分类号
O646 [电化学、电解、磁化学];
学科分类号
081704 ;
摘要
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页码:554 / &
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共 4 条
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