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NONSTOICHIOMETRY OF MOS2 PHASE PREPARED BY SPUTTERING
被引:17
作者
:
ITO, T
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0
ITO, T
NAKAJIMA, K
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NAKAJIMA, K
机构
:
来源
:
PHILOSOPHICAL MAGAZINE B-PHYSICS OF CONDENSED MATTER STATISTICAL MECHANICS ELECTRONIC OPTICAL AND MAGNETIC PROPERTIES
|
1978年
/ 37卷
/ 06期
关键词
:
D O I
:
10.1080/01418637808225655
中图分类号
:
T [工业技术];
学科分类号
:
08 ;
摘要
:
引用
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页码:773 / 775
页数:3
相关论文
共 1 条
[1]
QUANTITATIVE ELECTRON-PROBE MICROANALYSIS OF THIN-FILMS
ODA, Y
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机构:
TOYOTA CENT RES & DEV LABS INC,468 NAGOYA,JAPAN
TOYOTA CENT RES & DEV LABS INC,468 NAGOYA,JAPAN
ODA, Y
NAKAJIMA, K
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0
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机构:
TOYOTA CENT RES & DEV LABS INC,468 NAGOYA,JAPAN
TOYOTA CENT RES & DEV LABS INC,468 NAGOYA,JAPAN
NAKAJIMA, K
[J].
TRANSACTIONS OF THE JAPAN INSTITUTE OF METALS,
1975,
16
(11):
: 697
-
701
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共 1 条
[1]
QUANTITATIVE ELECTRON-PROBE MICROANALYSIS OF THIN-FILMS
ODA, Y
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0
机构:
TOYOTA CENT RES & DEV LABS INC,468 NAGOYA,JAPAN
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ODA, Y
NAKAJIMA, K
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机构:
TOYOTA CENT RES & DEV LABS INC,468 NAGOYA,JAPAN
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NAKAJIMA, K
[J].
TRANSACTIONS OF THE JAPAN INSTITUTE OF METALS,
1975,
16
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