LOW-TEMPERATURE LIQUID-PHASE EPITAXY GROWTH FOR ROOM-TEMPERATURE CW OPERATION OF 1.55-MU-M INGAASP-INP DOUBLE-HETEROSTRUCTURE LASER

被引:47
作者
TAKAHEI, K
HAGAI, H
KAWAGUCHI, H
机构
关键词
D O I
10.1063/1.91473
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
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页码:309 / 310
页数:2
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