STANDING WAVE INTERFERENCE PATTERNS IN PHOTORESISTS OBSERVED WITH A SCANNING ELECTRON MICROSCOPE

被引：3

作者：

FRIED, LJ

FLACHBART, R

ITLEN, DF

RANISESKI, JW

ANDERSON, FW

PATEL, KV

机构：

来源：

JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY | 1970年 / 117卷 / 08期

关键词：

D O I：

10.1149/1.2407725

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

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页码：1079 / +

页数：1

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