CHARACTERISTICS FOR A-SI-H FILMS PREPARED BY MERCURY-SENSITIZED PHOTOCHEMICAL VAPOR-DEPOSITION

被引：6

作者：

KAMIMURA, T

NOZAKI, H

机构：

来源：

JAPANESE JOURNAL OF APPLIED PHYSICS PART 2-LETTERS & EXPRESS LETTERS | 1987年 / 26卷 / 10期

关键词：

D O I：

10.1143/JJAP.26.L1573

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：L1573 / L1575

页数：3