THE DEPTH PROFILE OF THE ELEMENTS IN LEAD CHALCOGENIDE LAYERS

被引：5

作者：

KOVALEV, AN ^{[1
]}

KORABLEV, VV ^{[1
]}

机构：

[1] HELSINKI UNIV TECHNOL,HELSINKI,FINLAND

来源：

关键词：

D O I：

10.1016/0040-6090(88)90260-X

中图分类号：

T [工业技术];

学科分类号：

08 ;

摘要：

引用

页码：281 / 287

页数：7

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