PLASMAS AND PHOTOCHEMISTRY - RADIATION AT HIGH INTENSITY, CONTROLLED WAVE LENGTH MAY PROVIDE BREAKTHROUGH NEEDED BY PHOTOCHEMICAL PROCESSES

被引:5
作者
PAPP, CA
机构
来源
INDUSTRIAL AND ENGINEERING CHEMISTRY | 1963年 / 55卷 / 04期
关键词
D O I
10.1021/ie50640a008
中图分类号
O69 [应用化学];
学科分类号
081704 ;
摘要
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