CATHODE SPUTTERING IN THE ABNORMAL GLOW DISCHARGE

被引：8

作者：

HANAU, R

机构：

来源：

PHYSICAL REVIEW | 1949年 / 76卷 / 01期

关键词：

D O I：

10.1103/PhysRev.76.153

中图分类号：

O4 [物理学];

学科分类号：

0702 ;

摘要：

引用

页码：153 / 154

页数：2

共 7 条

[1]

BALY ECC, 1903, PHIL T A, V202, P183

[2]

COMPTON KT, 1930, REV MOD PHYS, V2, P186

FOWLER, RG ;

DUFFENDACK, OS .

PHYSICAL REVIEW, 1949, 76 (01) :81-89

[4] The preparation of sputtered metal films [J].

Hulburt, EO .

[5]

LOEB LB, 1939, FUNDAMENTAL PROCESSE, P599

[6]

NUTTING PG, 1908, B NBS, V4, P511

[7] Excitation processes in the hollow cathode discharge [J].

Sawyer, RA .

PHYSICAL REVIEW, 1930, 36 (01) :0044-0050