SOLVING STENCIL PROBLEM IN VACUUM DEPOSITION MASKS USING RIB-SUPPORTED STRUCTURES

被引：8

作者：

HAMMER, R ^{[1
]}

机构：

[1] IBM CORP,THOMAS J WATSON RES CTR,YORKTOWN HTS,NY 10598

来源：

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY | 1977年 / 14卷 / 05期

关键词：

D O I：

10.1116/1.569387

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：1208 / 1210

页数：3