LENGTH DISTRIBUTION OF ALUMINUM ETCH TUNNELS

被引：7

作者：

BECK, TR

UCHI, H

HEBERT, KR

机构：

[1] KDK CORP,TAKAHATI,IBARAKI 318,JAPAN

[2] IOWA STATE UNIV SCI & TECHNOL,DEPT CHEM ENGN,AMES,IA 50011

来源：

JOURNAL OF APPLIED ELECTROCHEMISTRY | 1989年 / 19卷 / 01期

关键词：

D O I：

10.1007/BF01039392

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

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页码：69 / 75

页数：7

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共 4 条

[1] ELECTROCHEMICAL TUNNEL ETCHING OF ALUMINUM [J].

ALWITT, RS ;

UCHI, H ;

BECK, TR ;

ALKIRE, RC .

JOURNAL OF THE ELECTROCHEMICAL SOCIETY, 1984, 131 (01) :13-17

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