NORMAL-STATE RESISTIVITY OF INSITU-FORMED ULTRAFINE FILAMENTARY CU-NB COMPOSITES

被引:81
作者
KARASEK, KR [1 ]
BEVK, J [1 ]
机构
[1] HARVARD UNIV,DIV APPL SCI,CAMBRIDGE,MA 02138
关键词
D O I
10.1063/1.329767
中图分类号
O59 [应用物理学];
学科分类号
摘要
引用
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页码:1370 / 1375
页数:6
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