EVIDENCE FOR CATHODIC PROTECTION OF CRYSTALLOGRAPHIC FACETS FROM GAAS ETCHING PROFILES

被引:15
作者
NOTTEN, PHL
KELLY, JJ
机构
[1] Philips Research Lab, Eindhoven, Neth, Philips Research Lab, Eindhoven, Neth
关键词
D O I
10.1149/1.2100476
中图分类号
O646 [电化学、电解、磁化学];
学科分类号
081704 ;
摘要
11
引用
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页码:444 / 448
页数:5
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