CONTROLLING INTERFACIAL OXIDE LAYER OF TI-AL CONTACTS WITH CRO3-H3PO4 ETCH

被引：7

作者：

SHANKOFF, TA

CHANG, CC

HASZKO, SE

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1149/1.2131474

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

页码：467 / 471

页数：5

共 10 条

CHANG, CC ;

BOULIN, DM .

[2]

CHANG CC, UNPUBLISHED

[3]

CHANG CC, 1974, CHARACTERIZATION SOL, pCH20

[4]

COSTELLO WR, UNPUBLISHED

[5]

EDWARDS JD, 1940, P AM SOC TEST MATER, V40, P959

[6]

LEWIS JE, 1956, INT J APPL RADIAT IS, V1, P33

[7]

MCQUILLAN AD, 1956, TITANIUM, P250

PLUMB, RC .

[9]

RETAJCZYK TF, UNPUBLISHED

[10] EFFECT OF SURFACE-ROUGHNESS ON ELLIPSOMETRY OF ALUMINUM [J].

SMITH, T .