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LOW-TEMPERATURE MIGRATION OF SILICON THROUGH METAL FILMS IMPORTANCE OF SILICON-METAL INTERFACE
被引：69
作者：
HIRAKI, A
LUGUJJO, E
NICOLET, MA
MAYER, JW
机构：
来源：
PHYSICA STATUS SOLIDI A-APPLIED RESEARCH
|
1971年
/
7卷
/
02期
关键词：
D O I：
10.1002/pssa.2210070212
中图分类号：
T [工业技术];
学科分类号：
08 ;
摘要：
引用
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页码：401 / &
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