ANGULAR-DEPENDENCE OF XPS INTENSITIES FROM GAAS (110) SURFACE

被引：23

作者：

KUDO, M ^{[1
]}

OWARI, M ^{[1
]}

NIHEI, Y ^{[1
]}

GOHSHI, Y ^{[1
]}

KAMADA, H ^{[1
]}

机构：

[1] UNIV TOKYO,FAC ENGN,DEPT IND CHEM,TOKYO 113,JAPAN

来源：

关键词：

D O I：

10.7567/JJAPS.17S2.275

中图分类号：

O59 [应用物理学];

学科分类号：

摘要：

引用

页码：275 / 277

页数：3

共 4 条

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