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X-RAY-LITHOGRAPHY BREAKS THE SUBMICROMETER BARRIER
被引：9
作者：
LEPSELTER, MP
机构：
关键词：
D O I：
10.1109/MSPEC.1981.6369505
中图分类号：
TM [电工技术];
TN [电子技术、通信技术];
学科分类号：
0808 ;
0809 ;
摘要：
Integrated circuit manufacture
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