INFLUENCES OF SPUTTERING GAS-PRESSURE ON MICROTEXTURE AND CRYSTALLOGRAPHIC CHARACTERISTICS OF BA-FERRITE THIN-FILMS FOR HIGH-DENSITY RECORDING MEDIA

被引：27

作者：

MORISAKO, A ^{[1
]}

MATSUMOTO, M ^{[1
]}

NAOE, M ^{[1
]}

机构：

[1] TOKYO INST TECHNOL,FAC ENGN,TOKYO 152,JAPAN

来源：

关键词：

D O I：

10.1109/TMAG.1987.1064821

中图分类号：

TM [电工技术]; TN [电子技术、通信技术];

学科分类号：

0808 ; 0809 ;

摘要：

引用

页码：56 / 58

页数：3

共 5 条

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MORISAKO A, 1986, INTERMAG 86 PHOENIX

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