SPUTTER CLEANING AND ETCHING OF CRYSTAL SURFACES (TI,W,SI) MONITORED BY AUGER SPECTROSCOPY, ELLIPSOMETRY AND WORK FUNCTION CHANGE

被引：25

作者：

SMITH, T

机构：

来源：

SURFACE SCIENCE | 1971年 / 27卷 / 01期

关键词：

D O I：

10.1016/0039-6028(71)90160-9

中图分类号：

O64 [物理化学（理论化学）、化学物理学];

学科分类号：

070304 ; 081704 ;

摘要：

引用

收藏

页码：45 / +

页数：1

相关论文

共 4 条

[1] PALEVSKY H, 1957, REV SCI INSTRUM, V18, P288
[2] AUGER ELECTRON SPECTROSCOPY OF FCC METAL SURFACES
PALMBERG, PW
RHODIN, TN
[J]. JOURNAL OF APPLIED PHYSICS, 1968, 39 (05) : 2425 - &
[3] FIELD-ELECTRON-MICROSCOPY STUDIES OF CESIUM LAYERS ON VARIOUS REFRACTORY METALS - WORK FUNCTION CHANGE
SWANSON, LW
STRAYER, RW
[J]. JOURNAL OF CHEMICAL PHYSICS, 1968, 48 (06) : 2421 - &
[4] SPHERICALLY SHAPED GRIDS FOR A LOW ENERGY ELECTRON DIFFRACTION SYSTEM
TOOD, CJ
[J]. JOURNAL OF SCIENTIFIC INSTRUMENTS, 1965, 42 (10): : 755 - &