PHOTOMETALLIC ETCHING OF HOLOGRAMS

被引：2

作者：

MAGILL, PJ

SPEICHER, CA

机构：

来源：

关键词：

D O I：

10.1149/1.2408367

中图分类号：

O646 [电化学、电解、磁化学];

学科分类号：

081704 ;

摘要：

引用

页码：1514 / &

共 7 条

[1] HOLOGRAMS IN THIN BISMUTH FILMS [J].

AMODEI, JJ ;

MEZRICH, RS .

[2] PHOTOMETALLIC PROCESS [J].

BURGESS, JF ;

SCHAEFER, DL .

JOURNAL OF VACUUM SCIENCE & TECHNOLOGY, 1969, 6 (01) :134-&

[3] PHOTOANODIC ENGRAVING OF HOLOGRAMS ON SILICON [J].

DALISA, AL ;

ZWICKER, WK ;

DEBITETTO, DJ ;

HARNACK, P .

[4] HOLOGRAPHIC RECORDING WITH PHOTOPOLYMERS [J].

JENNEY, JA .

[5]

KOMAR AI, 1967, OPT SPECTROSC-USSR, V23, P450

[6]

LESEM LB, 1969, IBM J RES DEV, V13

[7]

Smith H., 1969, PRINCIPLES HOLOGRAPH