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成像装置及大体成像系统
被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN201922124695.5
申请日：
2019-12-02
公开(公告)号：
CN210839761U
公开(公告)日：
2020-06-23
发明(设计)人：
刘道成
申请人：
申请人地址：
410205 湖南省长沙市高新开发区文轩路27号麓谷钰园C4栋N单元8层806房
IPC主分类号：
H04N5225
IPC分类号：
G01N2184
代理机构：
北京派特恩知识产权代理有限公司 11270
代理人：
刘欣;张颖玲
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2020-06-23 | 授权 | 授权 |