一种光学元件超声波清洗方法

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202311588642.3
申请日
2023-11-24
公开(公告)号
CN117483329A
公开(公告)日
2024-02-02
发明(设计)人
孔穿石 何虎 汪美辰 高远
申请人
上海镭望光学科技有限公司
申请人地址
201821 上海市嘉定区叶城路1288号6幢J
IPC主分类号
B08B3/12
IPC分类号
代理机构
上海恒慧知识产权代理事务所(特殊普通合伙) 31317
代理人
秦翠翠
法律状态
公开
国省代码
上海市 市辖区
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共 50 条
[1]
一种光学元件超声波清洗装置 [P]. 
武潇野 ;
张立超 ;
时光 ;
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才玺坤 ;
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[2]
一种光学元件超声波清洗装置 [P]. 
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[3]
光学透镜超声波清洗系统 [P]. 
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[4]
一种超声波清洗设备及超声波清洗工艺 [P]. 
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姚乾 ;
黄勇 .
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[5]
一种光学元件超声波的清洗装置 [P]. 
顾惠惠 ;
马建州 ;
袁海军 .
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[6]
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[7]
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蒲川 ;
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[8]
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徐己弘 .
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[9]
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[10]
超声波清洗槽的上盖板、超声波清洗槽及其超声波清洗机 [P]. 
吴泉波 ;
蒲川 ;
兰飞 ;
刘红兵 .
中国专利 :CN209491120U ,2019-10-15