光学层叠体的制造方法

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN202311454314.4

申请日：

2023-11-02

公开(公告)号：

CN117991434A

公开(公告)日：

2024-05-07

发明(设计)人：

藤长将司泽友树幡中伸行

申请人：

住友化学株式会社

申请人地址：

日本国东京都

IPC主分类号：

G02B5/30

IPC分类号：

G02F1/1335 G02F1/1337 B29D11/00

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

朱丹

法律状态：

实质审查的生效

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2025-10-10	实质审查的生效	实质审查的生效IPC(主分类):G02B 5/30申请日:20231102
2024-05-07	公开	公开

共 50 条

[1]

光学层叠体的制造方法 [P].

藤长将司 ;

泽友树 ;

幡中伸行 .

日本专利 :CN117991433A ,2024-05-07

[2]

光学层叠体的制造方法及光学层叠体 [P].

数家靖央 .

日本专利 :CN118832649A ,2024-10-25

[3]

光学层叠体的制造方法及光学层叠体的制造装置 [P].

大泷雅士 ;

久米悦夫 ;

仓本贤尚 .

日本专利 :CN113715374B ,2025-09-26

[4]

光学层叠体的制造方法及光学层叠体的制造装置 [P].

三浦秀宣 ;

门英昭 ;

宫村勋 ;

石渡和孝 ;

大泷雅士 ;

久米悦夫 ;

仓本贤尚 .

中国专利 :CN113696494A ,2021-11-26

[5]

光学层叠体的制造方法及光学层叠体的制造装置 [P].

大泷雅士 ;

久米悦夫 ;

仓本贤尚 .

中国专利 :CN113715374A ,2021-11-30

[6]

光学层叠体、带有贴合层的光学层叠体及其制造方法 [P].

白石贵志 ;

神野亨 ;

永安智 .

中国专利 :CN113156565A ,2021-07-23

[7]

光学层叠体、光学层叠体卷和偏光板的制造方法 [P].

南川善则 .

日本专利 :CN118226559A ,2024-06-21

[8]

光学层叠体及其制造方法 [P].

越野哲史 .

中国专利 :CN110609350B ,2019-12-24

[9]

光学层叠体及其制造方法 [P].

名田敬之 ;

幡中伸行 .

日本专利 :CN120595415A ,2025-09-05

[10]

带有粘接层的层叠体、层叠体、液晶层层叠体、液晶膜的制造方法、光学层叠体的制造方法 [P].

越野哲史 .

中国专利 :CN110609348B ,2019-12-24

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