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一种用于氧化镓的化学机械抛光液及抛光方法
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202311732738.2
申请日
:
2023-12-15
公开(公告)号
:
CN117720858A
公开(公告)日
:
2024-03-19
发明(设计)人
:
张松源
朱逸军
刘江华
申请人
:
芯越微电子材料(嘉兴)有限公司
申请人地址
:
314200 浙江省嘉兴市平湖市钟埭街道新明路901号3号楼
IPC主分类号
:
C09G1/02
IPC分类号
:
H01L21/306
代理机构
:
北京集佳知识产权代理有限公司 11227
代理人
:
杨华
法律状态
:
公开
国省代码
:
浙江省 嘉兴市
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-03-19
公开
公开
2024-04-05
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):C09G 1/02申请日:20231215
共 50 条
[1]
一种化学机械抛光液
[P].
杨俊雅
论文数:
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杨俊雅
;
荆建芬
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荆建芬
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马健
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马健
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姚颖
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姚颖
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周靖宇
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周靖宇
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黄悦锐
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黄悦锐
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倪宇飞
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倪宇飞
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李恒
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李恒
;
蔡鑫元
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蔡鑫元
.
中国专利
:CN113122142A
,2021-07-16
[2]
一种化学机械抛光液
[P].
马健
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安集微电子科技(上海)股份有限公司
安集微电子科技(上海)股份有限公司
马健
;
荆建芬
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安集微电子科技(上海)股份有限公司
安集微电子科技(上海)股份有限公司
荆建芬
;
杨俊雅
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安集微电子科技(上海)股份有限公司
安集微电子科技(上海)股份有限公司
杨俊雅
;
王曦
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安集微电子科技(上海)股份有限公司
安集微电子科技(上海)股份有限公司
王曦
;
郑闪闪
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安集微电子科技(上海)股份有限公司
安集微电子科技(上海)股份有限公司
郑闪闪
;
蔡鑫元
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安集微电子科技(上海)股份有限公司
安集微电子科技(上海)股份有限公司
蔡鑫元
;
唐浩杰
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安集微电子科技(上海)股份有限公司
安集微电子科技(上海)股份有限公司
唐浩杰
;
周靖宇
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安集微电子科技(上海)股份有限公司
安集微电子科技(上海)股份有限公司
周靖宇
;
张然
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安集微电子科技(上海)股份有限公司
安集微电子科技(上海)股份有限公司
张然
;
魏佳
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安集微电子科技(上海)股份有限公司
安集微电子科技(上海)股份有限公司
魏佳
;
陆弘毅
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安集微电子科技(上海)股份有限公司
安集微电子科技(上海)股份有限公司
陆弘毅
.
中国专利
:CN118271968A
,2024-07-02
[3]
一种化学机械抛光液
[P].
杨俊雅
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安集微电子科技(上海)股份有限公司
安集微电子科技(上海)股份有限公司
杨俊雅
;
荆建芬
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安集微电子科技(上海)股份有限公司
安集微电子科技(上海)股份有限公司
荆建芬
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马健
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安集微电子科技(上海)股份有限公司
安集微电子科技(上海)股份有限公司
马健
;
姚颖
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安集微电子科技(上海)股份有限公司
安集微电子科技(上海)股份有限公司
姚颖
;
周靖宇
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安集微电子科技(上海)股份有限公司
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周靖宇
;
黄悦锐
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安集微电子科技(上海)股份有限公司
安集微电子科技(上海)股份有限公司
黄悦锐
;
倪宇飞
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安集微电子科技(上海)股份有限公司
安集微电子科技(上海)股份有限公司
倪宇飞
;
李恒
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安集微电子科技(上海)股份有限公司
安集微电子科技(上海)股份有限公司
李恒
;
蔡鑫元
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安集微电子科技(上海)股份有限公司
安集微电子科技(上海)股份有限公司
蔡鑫元
.
中国专利
:CN113122142B
,2024-04-12
[4]
一种化学机械抛光液及抛光方法
[P].
刘江华
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机构:
芯越微电子材料(嘉兴)有限公司
芯越微电子材料(嘉兴)有限公司
刘江华
;
张松源
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芯越微电子材料(嘉兴)有限公司
芯越微电子材料(嘉兴)有限公司
张松源
;
朱逸军
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芯越微电子材料(嘉兴)有限公司
芯越微电子材料(嘉兴)有限公司
朱逸军
.
中国专利
:CN117431013A
,2024-01-23
[5]
一种化学机械抛光液及抛光方法
[P].
张建
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张建
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荆建芬
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荆建芬
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蔡鑫元
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蔡鑫元
;
陈宝明
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陈宝明
.
中国专利
:CN103897601B
,2014-07-02
[6]
一种化学机械抛光液及抛光方法
[P].
刘江华
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机构:
芯越微电子材料(嘉兴)有限公司
芯越微电子材料(嘉兴)有限公司
刘江华
;
张松源
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机构:
芯越微电子材料(嘉兴)有限公司
芯越微电子材料(嘉兴)有限公司
张松源
;
朱逸军
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机构:
芯越微电子材料(嘉兴)有限公司
芯越微电子材料(嘉兴)有限公司
朱逸军
.
中国专利
:CN117431013B
,2024-04-26
[7]
一种化学机械抛光液及抛光方法
[P].
张建
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张建
;
荆建芬
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荆建芬
;
蔡鑫元
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蔡鑫元
.
中国专利
:CN103897602B
,2014-07-02
[8]
化学机械抛光液
[P].
杨春晓
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杨春晓
;
俞昌
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俞昌
;
肖正龙
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肖正龙
;
荆建芬
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荆建芬
.
中国专利
:CN1900146A
,2007-01-24
[9]
化学机械抛光液及其抛光方法
[P].
周艳
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机构:
深圳清华大学研究院
深圳清华大学研究院
周艳
;
罗海梅
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机构:
深圳清华大学研究院
深圳清华大学研究院
罗海梅
;
陈高攀
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机构:
深圳清华大学研究院
深圳清华大学研究院
陈高攀
;
罗桂海
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机构:
深圳清华大学研究院
深圳清华大学研究院
罗桂海
;
潘立焱
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机构:
深圳清华大学研究院
深圳清华大学研究院
潘立焱
;
张楚红
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机构:
深圳清华大学研究院
深圳清华大学研究院
张楚红
.
中国专利
:CN117511412A
,2024-02-06
[10]
氮化镓化学机械抛光液及其制备方法
[P].
王永光
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王永光
;
钮市伟
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钮市伟
;
寇清明
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寇清明
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陈瑶
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陈瑶
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赵栋
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赵栋
;
朱玉广
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朱玉广
;
刘卫卫
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刘卫卫
.
中国专利
:CN110205034A
,2019-09-06
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