多層エマルションの製造方法、及びカプセルの製造方法[ja]

被引：0

申请号：

JP20150025846

申请日：

2015-02-12

公开(公告)号：

JP5801974B1

公开(公告)日：

2015-10-28

发明(设计)人：

申请人：

申请人地址：

IPC主分类号：

B01J13/00

IPC分类号：

A01N25/00 A01N25/04 A01N47/22 A01P7/04 A61K8/06 A61K9/113 A61K9/50 A61K47/04 A61K47/14 A61K47/32 A61K47/34 A61K47/36 A61K47/44 B01F3/08 B01J13/04 B01J13/12 C09D17/00

代理机构：

代理人：

法律状态：

国省代码：

引用

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共 50 条

[1]

炭酸カルシウム粒子の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP7504267B1 ,2024-06-21

[2]

表面処理ゾルゲルシリカ及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2019044929A1 ,2019-11-07

[3]

コロイダルシリカ及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025131825A ,2025-09-09

[4]

マイクロエマルション、及びマイクロエマルションの利用[ja] [P].

日本专利 :JP6667043B1 ,2020-03-18

[5]

シリカ粒子、及び、シリカ粒子の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025146918A ,2025-10-03

[6]

シリカ粒子、及び、シリカ粒子の製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP7529941B1 ,2024-08-06

[7]

球状表面処理シリカエアロゲル及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JP2025001216A ,2025-01-08

[8]

中空シリカ粒子の製造方法[ja] [P].

WATANABE YUSUKE .

日本专利 :JP2024033644A ,2024-03-13

[9]

研磨フィルム及びその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2002092286A1 ,2004-08-26

[10]

コアシェル型シリカおよびその製造方法[ja] [P].

日本专利 :JPWO2007122930A1 ,2009-09-03

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