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光学系统和具有光学系统的成像装置
被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN202010263252.9
申请日：
2020-04-07
公开(公告)号：
CN111812800B
公开(公告)日：
2020-10-23
发明(设计)人：
井野友裕
横谷真树
申请人：
申请人地址：
日本东京
IPC主分类号：
G02B1300
IPC分类号：
G02B1318
代理机构：
中国贸促会专利商标事务所有限公司 11038
代理人：
杨小明
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2022-09-13 | 授权 | 授权 |
| 2020-10-23 | 公开 | 公开 |
| 2021-04-27 | 实质审查的生效 | 实质审查的生效 IPC(主分类):G02B 13/00 申请日:20200407 |