掩膜版调整装置

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN202322663374.9

申请日：

2023-10-05

公开(公告)号：

CN221028636U

公开(公告)日：

2024-05-28

发明(设计)人：

请求不公布姓名姚宇

申请人：

苏州太阳井新能源有限公司

申请人地址：

215000 江苏省苏州市吴中区甪直镇联谊路98-12

IPC主分类号：

C23C14/04

IPC分类号：

C23C16/04

代理机构：

代理人：

法律状态：

授权

国省代码：

江苏省苏州市

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2024-05-28	授权	授权

共 50 条

[1]

硅片二次曝光用掩膜版角度调整装置 [P].

魏兴政 ;

李浩 .

中国专利 :CN220626859U ,2024-03-19

[2]

网版调整装置 [P].

洪成勇 ;

余作将 ;

张翔 .

中国专利 :CN203449729U ,2014-02-26

[3]

子掩膜版及掩膜版 [P].

谢飞 ;

苏胜利 ;

张佳成 ;

周俊吉 .

中国专利 :CN207775334U ,2018-08-28

[4]

掩膜版及掩膜版组 [P].

陈宁 ;

郭炜 ;

王路 .

中国专利 :CN201974631U ,2011-09-14

[5]

掩膜版及掩膜版组 [P].

陈宁 ;

郭炜 ;

王路 .

中国专利 :CN201974632U ,2011-09-14

[6]

刘明星 ;

王徐亮 ;

甘帅燕 ;

高峰 ;

张玄 .

中国专利 :CN208266254U ,2018-12-21

[7]

石晶晶 ;

褚福川 .

中国专利 :CN207799330U ,2018-08-31

[8]

不公告发明人 .

中国专利 :CN210072315U ,2020-02-14

[9]

李伟 ;

刘富军 ;

朱杰 ;

魏崇喜 .

中国专利 :CN202886836U ,2013-04-17

[10]

邱云 ;

林准焕 .

中国专利 :CN201867584U ,2011-06-15

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