利用聚焦粒子束对样品进行成像和处理的装置

被引:0
专利类型
发明
申请号
CN202311035631.2
申请日
2023-08-16
公开(公告)号
CN117594404A
公开(公告)日
2024-02-23
发明(设计)人
D·施瓦兹 D·莱姆勒 M·施奈尔 T·贝克 F·纽伯格
申请人
卡尔蔡司SMT有限责任公司 卡尔蔡司显微镜有限责任公司
申请人地址
德国上科亨
IPC主分类号
H01J37/28
IPC分类号
H01J37/26 H01J37/244
代理机构
北京市柳沈律师事务所 11105
代理人
王蕊瑞
法律状态
实质审查的生效
国省代码
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共 26 条
[1]
聚焦粒子束系统和分析带电粒子束的能量的方法 [P]. 
D.W.塔格尔 ;
J.B.麦金 ;
C.奥蒂斯 .
中国专利 :CN103779159B ,2014-05-07
[2]
使用聚焦粒子束修复样品的缺陷的方法与装置 [P]. 
N·奥思 ;
D·里诺 ;
R·费蒂格 .
德国专利 :CN117980820A ,2024-05-03
[3]
聚焦离子束系统及改进聚焦粒子束加工的方法 [P]. 
T.米勒 ;
S.克罗格 ;
S.张 ;
M.马佐斯 ;
A.格劳佩拉 .
中国专利 :CN103456588B ,2013-12-18
[4]
基于蒙特卡洛方法聚焦粒子束进行放射治疗的模拟方法 [P]. 
安超凡 ;
聂元存 ;
戴责已 ;
李佳 .
中国专利 :CN120789509A ,2025-10-17
[5]
处理样品的方法、粒子束系统以及计算机程序产品 [P]. 
A·施曼茨 ;
G·沃尔特 .
德国专利 :CN117423596A ,2024-01-19
[6]
等离子处理装置以及利用其的样品的处理方法 [P]. 
田中庆一 .
中国专利 :CN111492466A ,2020-08-04
[7]
对膜进行蚀刻的方法和等离子体处理装置 [P]. 
新关智彦 ;
胜沼隆幸 ;
木原嘉英 ;
户村幕树 .
中国专利 :CN112908844A ,2021-06-04
[8]
对膜进行蚀刻的方法和等离子体处理装置 [P]. 
胜沼隆幸 .
日本专利 :CN110544628B ,2024-10-11
[9]
对膜进行蚀刻的方法和等离子体处理装置 [P]. 
胜沼隆幸 .
中国专利 :CN110544628A ,2019-12-06
[10]
对衬底进行电化学处理的方法和集成电路装置 [P]. 
G·席琳 ;
J-P·拉斯金 ;
J·拉森 .
:CN111902915B ,2024-02-02