学术探索
学术期刊
学术作者
新闻热点
数据分析
智能评审
利用聚焦粒子束对样品进行成像和处理的装置
被引:0
专利类型
:
发明
申请号
:
CN202311035631.2
申请日
:
2023-08-16
公开(公告)号
:
CN117594404A
公开(公告)日
:
2024-02-23
发明(设计)人
:
D·施瓦兹
D·莱姆勒
M·施奈尔
T·贝克
F·纽伯格
申请人
:
卡尔蔡司SMT有限责任公司
卡尔蔡司显微镜有限责任公司
申请人地址
:
德国上科亨
IPC主分类号
:
H01J37/28
IPC分类号
:
H01J37/26
H01J37/244
代理机构
:
北京市柳沈律师事务所 11105
代理人
:
王蕊瑞
法律状态
:
实质审查的生效
国省代码
:
引用
下载
收藏
法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2024-03-12
实质审查的生效
实质审查的生效IPC(主分类):H01J 37/28申请日:20230816
2024-02-23
公开
公开
共 26 条
[1]
聚焦粒子束系统和分析带电粒子束的能量的方法
[P].
D.W.塔格尔
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
D.W.塔格尔
;
J.B.麦金
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
J.B.麦金
;
C.奥蒂斯
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
C.奥蒂斯
.
中国专利
:CN103779159B
,2014-05-07
[2]
使用聚焦粒子束修复样品的缺陷的方法与装置
[P].
N·奥思
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
卡尔蔡司SMT有限责任公司
卡尔蔡司SMT有限责任公司
N·奥思
;
D·里诺
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
卡尔蔡司SMT有限责任公司
卡尔蔡司SMT有限责任公司
D·里诺
;
R·费蒂格
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
卡尔蔡司SMT有限责任公司
卡尔蔡司SMT有限责任公司
R·费蒂格
.
德国专利
:CN117980820A
,2024-05-03
[3]
聚焦离子束系统及改进聚焦粒子束加工的方法
[P].
T.米勒
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
T.米勒
;
S.克罗格
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
S.克罗格
;
S.张
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
S.张
;
M.马佐斯
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
M.马佐斯
;
A.格劳佩拉
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
A.格劳佩拉
.
中国专利
:CN103456588B
,2013-12-18
[4]
基于蒙特卡洛方法聚焦粒子束进行放射治疗的模拟方法
[P].
安超凡
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
武汉大学
武汉大学
安超凡
;
论文数:
引用数:
h-index:
机构:
聂元存
;
论文数:
引用数:
h-index:
机构:
戴责已
;
论文数:
引用数:
h-index:
机构:
李佳
.
中国专利
:CN120789509A
,2025-10-17
[5]
处理样品的方法、粒子束系统以及计算机程序产品
[P].
A·施曼茨
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
卡尔蔡司显微镜有限责任公司
卡尔蔡司显微镜有限责任公司
A·施曼茨
;
G·沃尔特
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
卡尔蔡司显微镜有限责任公司
卡尔蔡司显微镜有限责任公司
G·沃尔特
.
德国专利
:CN117423596A
,2024-01-19
[6]
等离子处理装置以及利用其的样品的处理方法
[P].
田中庆一
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
田中庆一
.
中国专利
:CN111492466A
,2020-08-04
[7]
对膜进行蚀刻的方法和等离子体处理装置
[P].
新关智彦
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
新关智彦
;
胜沼隆幸
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
胜沼隆幸
;
木原嘉英
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
木原嘉英
;
户村幕树
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
户村幕树
.
中国专利
:CN112908844A
,2021-06-04
[8]
对膜进行蚀刻的方法和等离子体处理装置
[P].
胜沼隆幸
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
东京毅力科创株式会社
东京毅力科创株式会社
胜沼隆幸
.
日本专利
:CN110544628B
,2024-10-11
[9]
对膜进行蚀刻的方法和等离子体处理装置
[P].
胜沼隆幸
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
胜沼隆幸
.
中国专利
:CN110544628A
,2019-12-06
[10]
对衬底进行电化学处理的方法和集成电路装置
[P].
G·席琳
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
法语天主教鲁汶大学
法语天主教鲁汶大学
G·席琳
;
J-P·拉斯金
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
法语天主教鲁汶大学
法语天主教鲁汶大学
J-P·拉斯金
;
J·拉森
论文数:
0
引用数:
0
h-index:
0
机构:
法语天主教鲁汶大学
法语天主教鲁汶大学
J·拉森
.
:CN111902915B
,2024-02-02
←
1
2
3
→