静磁场均匀度调整方法、静磁场均匀度调整装置以及计算机

被引：0

专利类型：

发明

申请号：

CN201680004608.9

申请日：

2016-02-10

公开(公告)号：

CN107205687B

公开(公告)日：

2017-09-26

发明(设计)人：

藤川拓也阿部充志榊原健二花田光

申请人：

申请人地址：

日本东京都

IPC主分类号：

A61B5055

IPC分类号：

G01R333873

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司 11021

代理人：

刘慧群

法律状态：

专利申请权、专利权的转移

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2021-11-30	专利申请权、专利权的转移	专利权的转移 IPC(主分类):A61B 5/055 登记生效日:20211118 变更事项:专利权人变更前权利人:株式会社日立制作所变更后权利人:富士胶片医疗健康株式会社变更事项:地址变更前权利人:日本东京都变更后权利人:日本千叶县
2017-09-26	公开	公开
2020-09-01	授权	授权
2017-10-27	实质审查的生效	实质审查的生效 IPC(主分类):A61B 5/055 申请日:20160210

共 50 条

[1]

磁场均匀度调整方法以及磁场均匀度调整装置 [P].

榊原健二 ;

藤川拓也 ;

阿部充志 ;

花田光 .

中国专利 :CN107205689B ,2017-09-26

[2]

静磁场均匀度的调整方法、磁共振成像用静磁场产生装置、磁场调整系统、程序 [P].

榊原健二 .

中国专利 :CN103442635B ,2013-12-11

[3]

投影装置色彩均匀度调整方法及色彩均匀度调整装置 [P].

吴志鸿 ;

周秉忠 .

中国专利 :CN118842885A ,2024-10-25

[4]

磁场均匀度的调整方法、装置、电子设备及存储介质 [P].

张德鹏 ;

程东芹 ;

李培勇 ;

王蕾 ;

高沪光 ;

路志强 ;

刘宇 ;

刘琦 .

中国专利 :CN118731808B ,2024-11-19

[5]

磁场均匀度的调整方法、装置、电子设备及存储介质 [P].

张德鹏 ;

程东芹 ;

李培勇 ;

王蕾 ;

高沪光 ;

路志强 ;

刘宇 ;

刘琦 .

中国专利 :CN118731808A ,2024-10-01

[6]

磁共振主磁体磁场均匀度检测方法 [P].

吴嘉敏 ;

贺玉成 ;

徐征 ;

何为 ;

廖英翔 .

中国专利 :CN114859278B ,2024-12-03

[7]

磁共振主磁体磁场均匀度检测方法 [P].

吴嘉敏 ;

贺玉成 ;

徐征 ;

何为 ;

廖英翔 .

中国专利 :CN114859278A ,2022-08-05

[8]

磁体调整及均匀度补偿装置 [P].

孙益平 ;

刘治文 .

中国专利 :CN203385843U ,2014-01-08

[9]

磁体调整及均匀度补偿装置 [P].

孙益平 ;

刘治文 .

中国专利 :CN104237819A ,2014-12-24

[10]

一种磁场线圈径向磁场均匀度的补偿方法 [P].

李享 ;

张学斌 ;

刘扬帆 ;

程华富 ;

罗慧 .

中国专利 :CN120314843A ,2025-07-15

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