一种基于全相位预处理的MVDR波束形成方法

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专利类型
发明
申请号
CN201810018101.X
申请日
2018-01-09
公开(公告)号
CN110018465A
公开(公告)日
2019-07-16
发明(设计)人
郑恩明 陈新华 李媛 宋春楠
申请人
申请人地址
100190 北京市海淀区北四环西路21号
IPC主分类号
G01S7537
IPC分类号
G01S1588
代理机构
北京方安思达知识产权代理有限公司 11472
代理人
陈琳琳;张红生
法律状态
公开
国省代码
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共 50 条
[1]
一种基于分子阵预处理的MUSIC波束形成方法 [P]. 
陈新华 ;
郑恩明 ;
李媛 ;
宋春楠 .
中国专利 :CN110018466A ,2019-07-16
[2]
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[3]
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[4]
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[5]
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[6]
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[7]
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[8]
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[9]
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中国专利 :CN114879170A ,2022-08-09
[10]
一种用于MVDR波束形成技术的数据坏道消除方法 [P]. 
李智忠 ;
杨刚 ;
姜斌 ;
郭启超 .
中国专利 :CN114879170B ,2024-09-06