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磁共振成像显像剂和双光子成像显像剂加工用上料装置
被引：0
专利类型：
实用新型
申请号：
CN202023055301.4
申请日：
2020-12-17
公开(公告)号：
CN215555938U
公开(公告)日：
2022-01-18
发明(设计)人：
黄留琴
梅晓林
申请人：
申请人地址：
211100 江苏省南京市江宁区天元东路1009号创业大厦3层
IPC主分类号：
B65D8854
IPC分类号：
B65D9000
代理机构：
代理人：
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
| 法律状态公告日 | 法律状态 | 法律状态信息 |
| 2022-01-18 | 授权 | 授权 |