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用于漂移补偿的光刻装置和方法
被引:0
申请号
:
CN202180009166.8
申请日
:
2021-01-04
公开(公告)号
:
CN114945872A
公开(公告)日
:
2022-08-26
发明(设计)人
:
R·德金德伦
T·甘
T·R·唐尼
申请人
:
申请人地址
:
荷兰维德霍温
IPC主分类号
:
G03F720
IPC分类号
:
代理机构
:
北京市金杜律师事务所 11256
代理人
:
张宁;杨飞
法律状态
:
公开
国省代码
:
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法律状态
法律状态公告日
法律状态
法律状态信息
2022-08-26
公开
公开
共 50 条
[1]
用于补偿用作采样频率的本地时钟的漂移的装置和方法
[P].
热罗姆·莱内
论文数:
0
引用数:
0
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0
热罗姆·莱内
;
让-保罗·梅纳尔
论文数:
0
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0
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0
让-保罗·梅纳尔
.
中国专利
:CN1904642A
,2007-01-31
[2]
用于补偿电池的OCV的装置和方法
[P].
李炅燮
论文数:
0
引用数:
0
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0
机构:
三星SDI株式会社
三星SDI株式会社
李炅燮
.
韩国专利
:CN119575203A
,2025-03-07
[3]
补偿卫星通信的频率漂移的装置和方法
[P].
高淑媛
论文数:
0
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0
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0
高淑媛
.
中国专利
:CN1110147C
,1999-06-09
[4]
定位设备、用于补偿重力的重力补偿装置和方法
[P].
B·J·A·斯汤姆曼
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0
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0
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0
B·J·A·斯汤姆曼
;
R·L·图塞恩
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0
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0
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0
R·L·图塞恩
.
中国专利
:CN1833208A
,2006-09-13
[5]
用于光刻测量的传感器装置和方法
[P].
S·R·惠斯曼
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0
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0
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0
机构:
ASML荷兰有限公司
ASML荷兰有限公司
S·R·惠斯曼
;
A·波洛
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0
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0
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0
机构:
ASML荷兰有限公司
ASML荷兰有限公司
A·波洛
.
:CN112424697B
,2024-05-24
[6]
用于光刻测量的传感器装置和方法
[P].
T·M·T·A·M·埃拉扎雷
论文数:
0
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0
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机构:
ASML控股股份有限公司
ASML控股股份有限公司
T·M·T·A·M·埃拉扎雷
;
J·L·克鲁泽
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机构:
ASML控股股份有限公司
ASML控股股份有限公司
J·L·克鲁泽
;
林宇翔
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机构:
ASML控股股份有限公司
ASML控股股份有限公司
林宇翔
;
K·U·索博列夫
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机构:
ASML控股股份有限公司
ASML控股股份有限公司
K·U·索博列夫
.
:CN118859651A
,2024-10-29
[7]
用于光刻测量的传感器装置和方法
[P].
T·M·T·A·M·埃拉扎雷
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机构:
ASML控股股份有限公司
ASML控股股份有限公司
T·M·T·A·M·埃拉扎雷
;
J·L·克鲁泽
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机构:
ASML控股股份有限公司
ASML控股股份有限公司
J·L·克鲁泽
;
林宇翔
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机构:
ASML控股股份有限公司
ASML控股股份有限公司
林宇翔
;
K·U·索博列夫
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机构:
ASML控股股份有限公司
ASML控股股份有限公司
K·U·索博列夫
.
:CN113646700B
,2024-10-01
[8]
用于光刻测量的传感器装置和方法
[P].
S·R·惠斯曼
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0
S·R·惠斯曼
;
A·波洛
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0
A·波洛
.
中国专利
:CN112424697A
,2021-02-26
[9]
用于光刻测量的传感器装置和方法
[P].
T·M·T·A·M·埃拉扎雷
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0
T·M·T·A·M·埃拉扎雷
;
J·L·克鲁泽
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J·L·克鲁泽
;
林宇翔
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林宇翔
;
K·U·索博列夫
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0
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0
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K·U·索博列夫
.
中国专利
:CN113646700A
,2021-11-12
[10]
用于补偿内燃机的阀漂移的方法
[P].
J.博伊德
论文数:
0
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0
J.博伊德
;
W.菲姆尔
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0
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0
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W.菲姆尔
;
E.舍费尔
论文数:
0
引用数:
0
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0
E.舍费尔
.
中国专利
:CN107849986A
,2018-03-27
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