一种镀膜均匀的真空镀膜设备

被引：0

专利类型：

实用新型

申请号：

CN201921931023.9

申请日：

2019-11-08

公开(公告)号：

CN211170855U

公开(公告)日：

2020-08-04

发明(设计)人：

张新岳

申请人：

申请人地址：

518105 广东省深圳市宝安区松岗街道燕川社区新达路13号厂房

IPC主分类号：

C23C1426

IPC分类号：

C23C1432 C23C1456

代理机构：

上海波拓知识产权代理有限公司 31264

代理人：

周志中

法律状态：

授权

国省代码：

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法律状态

法律状态公告日	法律状态	法律状态信息
2020-08-04	授权	授权

共 50 条

[1]

一种镀膜均匀的真空镀膜设备 [P].

尹刚 ;

张华静 ;

陈嘉伟 .

中国专利 :CN222729871U ,2025-04-08

[2]

一种镀膜均匀的真空镀膜装置 [P].

杜斌 ;

卢军 .

中国专利 :CN215050638U ,2021-12-07

[3]

一种镀膜均匀的真空镀膜装置 [P].

谢廷伟 ;

刘维松 ;

彭学实 .

中国专利 :CN211036085U ,2020-07-17

[4]

真空镀膜设备 [P].

张果 ;

王伟 ;

姜玉伦 ;

张鑫 ;

唐钺丰 ;

段晓英 .

中国专利 :CN202881380U ,2013-04-17

[5]

一种镀膜厚度均匀的真空镀膜设备 [P].

胡冀 ;

占兵 ;

周家维 .

中国专利 :CN217265978U ,2022-08-23

[6]

一种镀膜均匀的真空镀膜机构 [P].

王志鹏 ;

廖志清 ;

廖雯 .

中国专利 :CN221117597U ,2024-06-11

[7]

一种均匀镀膜的真空镀膜机 [P].

王桂岳 ;

王同泉 ;

赵松强 ;

张文刚 .

中国专利 :CN217809635U ,2022-11-15

[8]

真空镀膜室及真空镀膜设备 [P].

谭立 ;

余海春 ;

戴晓东 ;

吴凯 .

中国专利 :CN222160347U ,2024-12-13

[9]

一种真空镀膜设备的真空室及真空镀膜设备 [P].

刘洁雅 .

中国专利 :CN202148346U ,2012-02-22

[10]

一种真空镀膜设备的真空室及真空镀膜设备 [P].

吕清水 .

中国专利 :CN217499396U ,2022-09-27

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