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精密双面抛光机的主轴传动机构

被引：0
专利类型：
发明
申请号：
CN200710068278.2
申请日：
2007-05-09
公开(公告)号：
CN100462202C
公开(公告)日：
2007-10-10
发明(设计)人：
李伟 胡小珍 胡晓冬 金杨福
申请人：
申请人地址：
310014浙江省杭州市下城区朝晖六区
IPC主分类号：
B24B2900
IPC分类号：
B24B4714
代理机构：
杭州天正专利事务所有限公司
代理人：
王兵;王利强
法律状态：
授权
国省代码：
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法律状态
法律状态公告日 法律状态 法律状态信息
2009-02-18 授权 授权
2007-10-10 公开 公开
2007-12-05 实质审查的生效 实质审查的生效
2013-07-03 专利权的终止 未缴年费专利权终止 号牌文件类型代码:1605 号牌文件序号:101482933426 IPC(主分类):B24B 29/00 专利号:ZL2007100682782 申请日:20070509 授权公告日:20090218 终止日期:20120509
共 50 条
[1]
精密双面抛光机的主轴传动机构 [P]. 
李伟 ;
胡小珍 ;
胡晓冬 ;
金杨福 .
中国专利 :CN201086224Y ,2008-07-16
[2]
精密双面抛光机 [P]. 
李伟 ;
胡晓冬 ;
阮健 .
中国专利 :CN101049678A ,2007-10-10
[3]
精密双面抛光机 [P]. 
李伟 ;
胡晓冬 ;
阮健 .
中国专利 :CN201040355Y ,2008-03-26
[4]
精密双面抛光机的上抛光盘传动机构 [P]. 
李伟 ;
胡晓冬 .
中国专利 :CN201040354Y ,2008-03-26
[5]
精密双面抛光机的上抛光盘传动机构 [P]. 
李伟 ;
胡晓冬 .
中国专利 :CN101069959A ,2007-11-14
[6]
超精密双面抛光机系统设备 [P]. 
韩青 .
中国专利 :CN203875733U ,2014-10-15
[7]
精密双面抛光机的控制系统 [P]. 
胡晓冬 ;
李伟 .
中国专利 :CN101049677A ,2007-10-10
[8]
双面抛光机 [P]. 
惠峰 ;
赵有文 ;
朱蓉辉 ;
高永亮 .
中国专利 :CN201776693U ,2011-03-30
[9]
双面抛光机 [P]. 
朱蓉辉 ;
赵冀 ;
惠峰 ;
卜俊鹏 ;
郑红军 .
中国专利 :CN101036976A ,2007-09-19
[10]
双面抛光机驱动系统及双面抛光机 [P]. 
王壹帆 ;
王莎 ;
胡碧波 ;
张琪 .
中国专利 :CN115519452A ,2022-12-27
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